ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ И МАТЕРИАЛЫ

Экспонирующее оборудование

УСТАНОВКА ЭКСПОНИРОВАНИЯ
BG-408

Экспонирующее оборудование BG-408 с двумя станциями представляет собой полностью автоматическое экспонирующее оборудование, которое в основном используется для выравнивания и экспонирования в процессе производства интегральных схем малого и среднего размера и полупроводниковых компонентов. Этот продукт автоматически завершает процесс передачи, выравнивания и экспонирования подложки, прост в эксплуатации, обладает высокой производительностью и стабильностью.

Применение:

  • производство интегральных схем;
  • производство полупроводниковых осветительных приборов;
  • производство фотоэлектрических элементов и модулей;
  • системная интеграция и сервисное обслуживание.

Максимальный размер подложкиφ100mm
Максимальный размер версии маски125 mm×125 mm 
Толщина подложки0.2~1.1mm 
Производительность260 изделий в час
Точность выравнивания5μm
Разрешение экспозиции2μm

УСТАНОВКА ЭКСПОНИРОВАНИЯ
BG-607S

Автоматическая экспонометрическое оборудование BG-607S применяется для автоматического выравнивания и экспонирования двусторонней графики в процессе производства интегральных схем малого и среднего размера и полупроводниковых компонентов. Это оборудование просто в эксплуатации, обладает высокой стабильностью, хорошей повторяемостью и высокой экономичностью. Его можно широко использовать в научных исследованиях и производстве.

Применение:

  • производство интегральных схем;
  • производство полупроводниковых осветительных приборов;
  • производство фотоэлектрических элементов и модулей;
  • системная интеграция и сервисное обслуживание.
Максимальный размер подложкиMax 6″(φ150 mm) 
Применимый максимальный размер сеткиMax 7″(175×175 mm) 
Толщина подложки0.2~1.1mm 
Режим экспозицииSoft Touch, Hard Touch, вакуумное копирование
Точность выравнивания±1.5μm (Top)
±3.5μm  (Bottom)
Разрешение экспозиции1.5μm

УСТАНОВКА ЭКСПОНИРОВАНИЯ
SB-602

Это оборудование в основном используется для двустороннего выравнивания и экспонирования в области полупроводниковых оптоэлектронных устройств, силовых устройств, датчиков, гибридных схем, микроволновых устройств и микроэлектромеханических систем (MEMS).

Максимальный размер подложкиMax 6″(φ150 mm) 
Применимый максимальный размер сеткиMax 7″(175×175 mm) 
Точность выравнивания±3μm 
Точность выравнивания маски к подложке±3μm
Разрешение экспозиции6μm

Выберите необходимое для вас оборудование от AISEMICON.
Наши специалисты помогут вам с выбором и сориентируют по условиям поставки